專利授權
文件編號
PZ102090062 
人氣指數
810 
專利名稱
多波長偏光全像量測系統及測量方法 
發明人
盧宥任 
專利權人
金屬中心 
領域別
其他光電材料及元件製造業(電子零組件製造業),  
實施限制
技術成熟度
 
年費有效日期
 
交易方式
 
專利摘要

本專利提出之多波長偏光數位全像顯微量測技術,若搭配適當物鏡DHM光學系統縱向解析度可達10nm,而可量測最大階高差為19.6m。本技術除能彌補傳統數位全像顯微術缺陷,更兼具其即時量測特性。  
優勢與應用範圍

特色:一、不同於相位移法,DHM允許單次取像而不需推動PZT進行多次取像。二、DHM不需要取得樣品焦平面影像,因其可藉著數值演算法將樣品光波前還原取得物體3D形貌。三、在使用高倍率物鏡情形下,DHM可提供繞射極限等級光學橫向解析度,而縱向方面可克服高NA值顯微物鏡短景深之限制,延伸取像景深範圍。因此,發展DHM技術有機會開發出對震動不敏感之即時(real-time)線上3D形貌檢測技術。 創造效益:在2004年,我國光學檢測設備中,光電和半導體市場合計約佔整體光學檢測設備市場之80%。我國半導體之光學檢測設備市場值約為新台幣138億元,而光電業(FPD)之光學檢測設備市場值約為新台幣128.3億元。不過,以國內具有AOI設備製造生產能力廠商於2004年貢獻之總產值不到40億元台幣,關鍵零組件約有90%仍需進口。此外,值得一提的是2005年我國由韓國進口設備超過新台幣20憶,佔總市場6.4%。由以上數據顯示我國於自動光學檢測技術缺乏核心量能,各檢測設備之關鍵技術及零組件目前均仰賴進口,急待政府大力扶植本土檢測技術。 
相關網站

附檔
   
專利保護情況
專利保護狀態
獲證維護中 
申請國家
中華民國 
申請號
098146338 
專利類別
 
公告號
I393871 
證書號
I393871 
專利家族
 
專利權起始日期
2013/04/21 
專利權止日期
2029/12/30 
下次繳費日期
 
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