專利授權
文件編號
PZ102090067 
人氣指數
564 
專利名稱
真空滾鍍機及用於真空滾鍍機之蒸鍍裝置 
發明人
張凱傑、朱繼文、邱松茂、謝志男 
專利權人
金屬中心 
領域別
其他通用機械設備製造業(機械設備製造業),  
實施限制
技術成熟度
 
年費有效日期
 
交易方式
 
專利摘要

一種真空滾鍍機包含一具有蒸鍍空間的蒸鍍艙、一可產生電弧的引弧器,及一設於該蒸鍍艙的蒸鍍裝置,該蒸鍍裝置包括一容置於該蒸鍍空間中的腔體座、一概呈平板狀且鑲嵌於該腔體座上的靶體,該腔體座界定有一呈常壓狀態的大氣空間;該靶體具有一突露於該蒸鍍空間中並供一靶材覆設的陰極部,及一位於該大氣空間中的陽極部;藉由將該平板狀的靶體鑲嵌於該腔體座上,不僅提高覆設於該陰極部之靶材的面積來擴大蒸鍍範圍,更可免除多弧式靶源的設計,簡化後續拆裝與保養上的問題。  
優勢與應用範圍

特色:1.本專利提出矩形靶源之設計,將多個多弧式靶源涵蓋的鍍膜範圍,由一個矩形靶源取代,因此可將數個多弧靶源所需之機構整併為一組,機構設計與施工可以簡易化。 2.磁控裝置可做磁場範圍調整,包含磁極至靶材表面距離調整、磁極涵蓋面積調整。 3.深入腔體的靶源背部空間採密封方式,與真空室隔絕,如此即使靶原背部之冷卻水路洩漏,不致影響真空度,此外有助於縮小腔體體積,縮短真空抽氣時間 4.靶源固定座配置冷卻水循環系統,陽極遮罩可充分冷卻,有利於製程長時間操作。 5.引弧器採連桿方式傳動,安裝位置較具彈性。創造效益:滾鍍機可使用筒進筒出,不需製作載台及治具,因此不需裝料及卸料,每爐次產量較批次式增加數倍,只需一人操作可節省時間及人力成本。 
相關網站

附檔
   
專利保護情況
專利保護狀態
獲證維護中 
申請國家
中華民國 
申請號
097133557 
專利類別
 
公告號
I400344 
證書號
I400344 
專利家族
 
專利權起始日期
2013/07/01 
專利權止日期
2028/09/01 
下次繳費日期
 
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