專利授權
文件編號
PZ098010061 
人氣指數
1577 
專利名稱
抗反射膜及其製造方法 
發明人
邱維銘、錢玉樹、王志鴻、張惠玲 
專利權人
國立勤益科技大學 
領域別
液晶面板及其組件製造業(電子零組件製造業),  
實施限制
技術成熟度
 
年費有效日期
 
交易方式
 
專利摘要

本發明係有關於一種抗反射膜及其製造方法,其係為利用水解與縮合之反應使一金屬烷氧化物或金屬無機鹽類形成一膠體,以製造一層或複數層薄膜而形成一抗反射膜。其中一開始之步驟係提取一金屬烷氧化物或一金屬無機鹽類進行水解與縮合聚合反應而生成為一膠體,接續溶解膠體於一有機溶液,以便膠體與有機溶液加入反應器後可讓膠體均勻反應,然後加入一光起始劑以讓膠體於反應器進行反應,最後讓反應器生成之混合溶液以旋轉塗佈於一透明基板上,如此即可形成一抗反射膜於透明基板上。上述之方法可讓反應於室溫下進行,以使製造抗反射膜之成本降低。  
優勢與應用範圍

 
相關網站

附檔
   
專利保護情況
專利保護狀態
獲證維護中 
申請國家
中華民國 
申請號
095110135  
專利類別
 
公告號
I293126  
證書號
I293126  
專利家族
 
專利權起始日期
2008/02/01 
專利權止日期
2026/03/22 
下次繳費日期
 
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