專利授權
文件編號
PZ097120173 
人氣指數
1261 
專利名稱
透明導電鍍膜之製造裝置及方法 
發明人
劉伍健、卓廷彬 
專利權人
金屬中心 
領域別
液晶面板及其組件製造業(電子零組件製造業),  
實施限制
技術成熟度
 
年費有效日期
 
交易方式
 
專利摘要

一種透明導電鍍膜之製造裝置包含一接近真空狀態之腔體、二質量流量計、至少兩透明導電氧化物靶源及至少一金屬靶源。質量流量計係用以將惰性氣體與氧氣通入該腔體中。該至少兩透明導電氧化物靶源及至少一金屬靶源,均配置於該腔體內,並交錯排列成一直線,藉此同時形成至少兩透明導電氧化物薄膜及至少一金屬薄膜於一被輸送之基材上,其中該透明專電氧化物薄膜及該金屬薄膜係交錯堆疊該基材上,以形成一高透光率及高導電率之鍍膜。 
優勢與應用範圍

本製程可作為現有設備改良之參考,並作為設計新設備之依據,由於鍍膜厚度大幅降低,可節省鍍膜時間,並能維持高導電率及高透光率。若獲得國內產業採用,將有機會逐漸取代進口產品。 
相關網站

附檔
   
專利保護情況
專利保護狀態
獲證維護中 
申請國家
台灣 
申請號
093124233 
專利類別
 
公告號
I271442 
證書號
I271442 
專利家族
 
專利權起始日期
2007/01/21 
專利權止日期
2044/08/11 
下次繳費日期
 
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